諾發系列產品

諾發專事製造、銷售並服務用於薄膜沉積、表面處理以及化學機械平坦化 (CMP) 的先進半導體製造設備。我們的化學氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)、電化沉積 (ECD)、紫外線熱處理 (UVTP)、光阻蝕刻劑和殘留物清除以及化學機械平坦化系統 (CMP) 被全球半導體生產商廣泛的使用, 並以最低總生產成本達成量產高品質的半導體。

歡迎您進一步瞭解諾發在化學氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)、電化沉積 (ECD)、紫外線熱處理 (UVTP)、表面處理以及化學機械平坦化 (CMP) 方面的各項創新。許多製造商採用本公司的化學氣相沉積 (CVD) 製程來沉積絕緣薄膜 (絕緣層) 以及導電薄膜 (金屬)。物理氣相沉積 (PVD) 製程使用高級濺鍍技術，將一層極薄的金屬膜塗覆在晶圓表面。我們憑藉著電化沉積 (ECD) 系統在先進的化學製程以及晶圓夾具和場成形元件的革新，打造出性能出眾的諾發銅質 Electrofill™ 的電化沉積膜。我們的紫外線熱處理技術協助客戶提升強化電漿化學氣相沉積 (PECVD) 薄膜的機械性能。諾發的表面完整性產品組提供了製造高級裝置所需的光阻剝落及清除技術，而我們的化學機械平坦化 (CMP) 產品組在下一道沉積工序前將晶圓表面平整化。

您可以在這裡進一步瞭解關於諾發的各項創新系列產品，包括用於絕緣的強化電漿化學氣相 (PECVD) 沉積產品、絕緣高密度電漿化學氣相沉積 (HDP CVD) 產品、傲視業界的金屬化學氣相沉積 (CVD) 產品、先進的物理氣相沉積 (PVD) 產品、銅製程 Electrofill 產品、紫外線熱處理 (UVTP) 產品、表面處理產品以及化學機械平坦化 (CMP) 產品。