諾發產品資訊

諾發專事半導體裝置或晶片產品所需的生產設備之系統設計、製造並從事售後服務。我們的化學氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)、電化沉積 (ECD)、化學機械平坦化 (CMP） 以及表面處理系統在全球獲得廣泛之應用，使客戶得以最低之總成本大量生產先進的半導體裝置。

許多半導體裝置製造商採用本公司的化學氣相沉積系統，通過強化電漿化學氣相沉積製程 (PECVD) 或者是高密度電漿化學氣相沉積製程 (HDP CVD) 來沉積一種當作絕緣物質的薄膜，也就是所謂的絕緣層。某些特定類型的絕緣薄膜因為應用於超高性能裝置，其需要一道後沉積處理 (UVTP，紫外線熱處理)。我們也生產用於沉積可導電鎢膜之化學氣相沉積系統 (W-CVD)。諾發也提供物理氣相沉積系統 (PVD), 它是用來在晶片表面沉積一層鋁，這個鋁導電金屬層就如同使用銅線的晶片上沉積銅阻隔層/晶種層。我們的電化沉積 (ECD) 產品是應用於銅製程之晶片上製造銅線，而我們的化學機械平坦化 (CMP) 系統產品是用來硏磨晶圓表面以保持它的平整性。最後，我們的表面處理系統是用來清除生產製造過程中各站點間晶圓表面之殘留物及污染物。