諾發系統公司成立於 1984 年，領先業界提供用半導體生產的化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、電化沉積(ECD)、化學機械平坦化(CMP)、紫外熱處理 (UVTP) 和表面處理設備。公司主力產品有 CVD、PVD 和 ECD，可將絕緣物質薄膜和導電物質以薄膜的型態沉積在晶片表面，以便形成佈線。諾發還有其他各項產品，包括在製程工序間清潔晶片表面 (表面處理)，拋光裝置表面使其平整 (平坦)，也就是 (CMP)，以及後處理沉積薄膜來提高機械性能 (UVTP)。隨著電路幾何尺寸的縮小，諾發生產的沉積、表面處理、化學機械平坦化和薄膜處理系統目前正成為高級半導體裝置製造的關鍵技術。

諾發公司總部位於加州的聖荷西市，工程和製造中心位於奧勒岡州圖拉丁和亞利桑那州的錢德勒。諾發在全球16個國家設立銷售和服務據點，打造全球客戶服務網。 敬邀您深入瞭解本公司以及我們如何以傲人的製造生產力和最新技術立足於本行業。您可以流覽企業記事詳細瞭解企業背景、我們的產品和技術，或者造訪我們的全球據點。如需最新資訊，請見新聞稿和活動中的新聞公告。